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本发明涉及磁控溅射设备技术领域，特别是一种新型磁控溅射装置，包括溅射腔室和螺线管，所述溅射腔室内左右两侧设置有靶材，所述螺线管均匀分布在靶材背部及溅射腔室底部，各螺线管均与电源电连接；所述靶材背部连接有靶材倾斜角度调整装置。采用上述结构后，...
该专利属于湖畔光电科技（江苏）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖畔光电科技（江苏）有限公司授权不得商用。

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