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本发明涉及等离子化学气相沉积技术领域，公开了压力控制系统及控制该系统的压力控制方法。其中，压力控制系统包括：与真空腔体通过真空管道连接的真空泵，真空管道上设置有电控制阀门；用于测量真空腔体的真空度的真空计，真空计和电控制阀门通过可编程序控制...
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