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本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗装置。所述晶圆清洗装置包括用于容纳晶圆的反应腔室，还包括：多条主管道，用于一一传输多种原料至混合槽；多条支管道，与多条主管道一一对应，用于一一传输多种所述原料至制程槽；混合槽，连接所述制...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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