温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及化学气相沉积领域，公开了一种等离子化学气相沉积装置。本发明中，该等离子化学气相沉积装置，包括阳极、阴极及至少一个调节电路；所述阳极上连接有基底；通过调节所述调节电路的阻抗，能够调节所述阳极的电压，从而控制等离子对所述基底的轰击能量...
该专利属于上海稷以科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海稷以科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。