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本公开提出了一种二次成像光学光刻方法和设备。所述二次成像光学光刻方法包括：将光刻掩模板与柔性透明转移衬底紧密接触；用第一光源通过所述光刻掩模板照射所述柔性透明转移衬底的感光层，以将所述光刻掩模板的图案转移到所述柔性透明转移衬底的感光层；在用...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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