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本发明提供了一种谐振器及其制作方法，包括：提供衬底，在衬底上形成至少一个第一凹槽，并在第一凹槽内填充待刻蚀材料；在衬底表面形成压电结构层，压电结构层包括依次位于衬底表面的种子层、下电极、压电层和上电极；对每个压电区四周的压电结构层进行刻蚀形...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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