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本发明提供了一种高配比混料装置，其具有第一与第二入料管、第一与第二第一雾化/细微化剂量控制装置以及反应室。第一与第二入料管以多层套管方式配置，第一与第二雾化/细微化剂量控制装置分别设置于第一与第二入料管的末端，且反应室用以容置第一与第二入料...
该专利属于亚泰半导体设备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过亚泰半导体设备股份有限公司授权不得商用。

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