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用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜技术
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文档序号:21276508
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本公开涉及用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜,方法包括:将衬底支撑在衬底支撑件上;分别使用包括线性源气体喷嘴及线性反应气体喷嘴的线性沉积源来分别将源气体及反应气体注入到衬底上,所述线性源气体喷嘴及所述线性反应气体喷嘴在与衬底交叉...
该专利属于AP系统股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。
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