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本发明公开了一种硅表面镀层及其制备工艺和用途，该工艺包含：(1)将单晶硅试样放入SnCl2/HCl溶液中敏化；(2)将敏化试样浸泡在PdCl2/HCl/HF溶液中活化；(3)将活化试样浸泡在无电镀镍溶液中镀镍；(4)将镀镍试样在H2/Ar环...
该专利属于西京学院所有，仅供学习研究参考，未经过西京学院授权不得商用。

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