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本发明提供一种强效去污多晶硅片用清洗液及其制备方法，涉及多晶硅生产技术领域。所述清洗液由以下重量份的原料制成：二辛基琥珀酸磺酸钠4‑6份、二异辛基丁二酸酯磺酸钠2‑4份、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠6‑8份、硬脂酸甘油酯8‑10份、聚氧乙烯烷基醇...
该专利属于安徽华顺半导体发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽华顺半导体发展有限公司授权不得商用。

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