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一种中介层衬底制造为具有位于邻近的区域之间的划线区域。在一个实施例中，利用单独的曝光中间掩模以图案化划线区域。曝光中间掩模以图案化划线区域将形成曝光区域，其重叠并悬置该曝光区域用于形成邻近的区域。本发明实施例涉及半导体器件和制造方法。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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