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本发明涉及一种适用于水环境下超低摩擦磁控氮化硼润滑薄膜的制备方法，该方法是指：将切割成5cm×5cm的单晶硅片经超声清洗后置于通风处自然晾干，再镶嵌在磁控溅射镀膜设备真空仓中的转架杆上进行磁控溅射，即得沉积不同质量的氮化硼薄膜单晶硅片。本发...
该专利属于中国科学院兰州化学物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院兰州化学物理研究所授权不得商用。

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