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本发明涉及OLED高色域显示技术领域，特别涉及一种OLED微腔结构的制作方法。该制作方法包括以下步骤：在基底上形成反射阳极；在反射阳极上形成需求像素所对应厚度的透明导电薄膜层；配合需求像素所对应的像素掩膜板对透明导电薄膜层和反射阳极进行构图...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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