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本发明公开了一种薄膜表面处理方法及薄膜表面处理设备，通过采用氢氟酸对薄膜表面进行刻蚀处理，可以将薄膜表面具有的物质刻蚀掉。采用清洗溶液对经过刻蚀处理后的薄膜表面的氢氟酸进行清洗处理，以去除薄膜表面残留的氢氟酸，可以避免残留的氢氟酸导致薄膜过...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。