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一种去除附着于金属基体表面的氮化钽薄膜的清洗方法，包括以下步骤：将刻蚀后的金属基体放入反应室内；在反应室中充满氧气和四氟化碳的混合气体，氧气与四氟化碳的体积比为2：3‑2：5；将反应室升温并保持在130‑180℃，对反应室抽真空至5‑15T...该专利属于富乐德科技发展（天津）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过富乐德科技发展（天津）有限公司授权不得商用。
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一种去除附着于金属基体表面的氮化钽薄膜的清洗方法，包括以下步骤：将刻蚀后的金属基体放入反应室内；在反应室中充满氧气和四氟化碳的混合气体，氧气与四氟化碳的体积比为2：3‑2：5；将反应室升温并保持在130‑180℃，对反应室抽真空至5‑15T...