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公开了一种基板处理装置。基板处理装置包括：腔室，在其内部具有处理空间；支承单元，其配置为在处理空间中支承基板；气体供应单元，其配置为向处理空间中供应气体；以及等离子体产生单元，其配置为从气体产生等离子体，其中，该支承单元包括：静电卡盘，所述...
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