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本实用新型公开一种电镀装置，属于电镀技术领域。所述电镀装置包括直流电源、槽控机、电镀槽、附槽、循环泵、过滤器、阳极、电镀液、阴极、极座、搅拌器、温控仪等，本实用新型所述电镀装置操作方便、工作可靠性高，槽电压可实时监控，极间距可变，电镀液可以...
该专利属于昆明理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过昆明理工大学授权不得商用。

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