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本发明提供一种半导体衬底研磨抛光中蜡回收再利用的方法，所述方法主要包括：去除回收蜡中的杂质以及配置新蜡。本方法通用性强，可以针对不同原料组成的回收蜡实施，成本低，回收利用率可以达到80％以上，制得新蜡可以与市购蜡具有相当的性能。...
该专利属于上海映智研磨材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海映智研磨材料有限公司授权不得商用。

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