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本发明公开了一种半导体器件接触孔开路检测结构,在所述半导体器件多晶硅栅两侧设置公共接触孔,所述公共接触孔自器件顶端连接硅衬底。本发明还提供了一种半导体器件接触孔开路检测方法。本发明在半导体器件/半导体器件阵列多晶硅栅两侧设计公共接触孔,在电...该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种半导体器件接触孔开路检测结构,在所述半导体器件多晶硅栅两侧设置公共接触孔,所述公共接触孔自器件顶端连接硅衬底。本发明还提供了一种半导体器件接触孔开路检测方法。本发明在半导体器件/半导体器件阵列多晶硅栅两侧设计公共接触孔,在电...