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本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种冗余图形添加方法，包括提取某个图层并将其切割成若干窗格；将窗格划分为添加区域以及原始版图区域；在原始版图区域中划分出第一类区域以及第二类区域；计算第一类区域占窗格的第一面积比例，以及第二类区域中占窗格的...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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