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本发明公开了一种晶片清洗盆，该清洗盆包括：钵状主体，所述钵状主体的内部底面中心位置设有凸起结构，所述凸起结构的中部设置第一通孔，所述第一通孔的边缘设置有向上延伸的环形件，所述钵状主体的底部连通有抽气管道；固定模组，所述固定模组的第一端穿过所...
该专利属于上海提牛机电设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海提牛机电设备有限公司授权不得商用。

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