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阻变存储器件及其制造方法技术
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文档序号:21005926
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本发明公开了一种阻变存储器件及其制造方法。阻变存储器件包括:第一电极层和第二电极层,其被设置为彼此间隔开;以及阻变材料层,其设置在第一电极层与第二电极层之间并且包括无定形碳结构。阻变材料层包括附着在无定形碳结构上的杂质元素,并且杂质元素具有...
该专利属于爱思开海力士有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过爱思开海力士有限公司授权不得商用。
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