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本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本发明的阵列基板的制备方法，包括：在基底上形成第一材料层；第一材料层至少包括靠近基底侧的亲水材料层；通过构图工艺形成具有容纳部的第一膜层；其中，容纳部贯穿第一材料层；第一膜层包...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司授权不得商用。