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本发明提供一种高密度VCSEL阵列结构及其制备方法,结构包括依次层叠设置的衬底、第一DBR层、有源层、氧化层、第二DBR层和欧姆接触层,所述欧姆接触层远离所述第二DBR层的表面设有多个相互独立的出光区域,各所述出光区域的周围分别设有由所述欧...该专利属于厦门乾照半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门乾照半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种高密度VCSEL阵列结构及其制备方法,结构包括依次层叠设置的衬底、第一DBR层、有源层、氧化层、第二DBR层和欧姆接触层,所述欧姆接触层远离所述第二DBR层的表面设有多个相互独立的出光区域,各所述出光区域的周围分别设有由所述欧...