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本发明提供一种光阻剥离方法，所述光阻剥离方法至少包括步骤S10：提供一块基板，在所述基板上涂布一层光阻，形成光阻层；步骤S20：施加变化的空间电场，使所述光阻层产生形变，对所述光阻层进行脱膜工艺；其中，所述光阻中含有在所述空间电场下产生极化...
该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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