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本发明公开了一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，所述制备方法为：先制备得到酸催化的SiO2溶胶A，然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B，最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2...
该专利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院激光聚变研究中心授权不得商用。

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