一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，所述制备方法为：先制备得到酸催化的SiO2溶胶A，然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B，最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2薄膜。本发明专利技术的制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快，由于制得的SiO2减反射膜中有酸催化SiO2纳米颗粒的存在，使得到的SiO2减反射膜相比于现有的SiO2减反射膜，机械性能更好，且透光率高，反应过程中无需引入任何有机硅烷或是对薄膜进行后处理即可得到超低折射率的SiO2薄膜。

Preparation of an ultra-low refractive index SiO_2 antireflective film

The invention discloses a preparation method of ultra-low refractive index SiO 2 antireflective film. The preparation method is as follows: firstly, acid-catalyzed SiO 2 Sol A is prepared, then acid-catalyzed SiO 2 Sol A is deacidified and used as raw material to prepare composite SiO 2 Sol B together with alkali-catalyzed collagen material, and finally, composite SiO 2 Sol B is prepared by dipping and pulling method. The preparation method of the present invention has the advantages of simple process, strong operability and fast reaction speed. Due to the presence of acid catalyzed SiO 2 nanoparticles in the prepared SiO 2 antireflective film, the obtained SiO 2 antireflective film has better mechanical properties and higher transmittance than the existing SiO 2 antireflective film, and the ultra-low refraction can be obtained without introducing any organic silane or after-treatment of the film in the reaction process. SiO 2 thin films with emissivity.

【技术实现步骤摘要】
一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法
本专利技术涉及一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，属于光学薄膜

技术介绍
多孔光学薄膜因其具有低的折射率而广泛地应用于光学元件、微电子学等领域中。SiO2基薄膜由于具有良好的化学惰性、抗腐蚀性以及机械和热稳定性，成为最具魅力的材料之一。氟化镁和SiO2的致密材料折射率分别为1.39和1.46，已经处于致密材料的较低值行列。但是，超低折射率光学薄膜的匮乏阻碍了一些具有优异光学性能的实用器件的发展。这促使人们开发超低折射率薄膜的制备新方法。当在SiO2材料中引入空隙，溶胶-凝胶基SiO2薄膜的折射率可达1.19(JournalofSol-GelScienceandTechnology，2016，80，10-18)。然而，就算是这种薄膜也无法满足折射率需匹配空气折射率的要求。所以，人们开发了各种各样的方法用来制备超低折射率。化学刻蚀(OpticsLetters，2012，37，1406-1408)和高温煅烧除模板剂法(Chem.Mater.2009，21，2055-2061)是获得多孔薄膜比较有效的方法。但是有毒有害化学试剂的使用不本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法为：先制备得到酸催化的SiO2溶胶A，然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B，最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法为：先制备得到酸催化的SiO2溶胶A，然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B，最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2薄膜。2.根据权利要求1所述的超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，其特征在于，具体包括如下操作步骤：步骤1，制备酸催化的SiO2溶胶A：将104g正硅酸乙酯、860g无水乙醇和36g水混合均匀，得到混合溶液X，将混合溶液X密封于容器中，于30℃下搅拌4小时，然后置于25℃下静置七天得到酸催化的SiO2溶胶，得到的SiO2溶胶的质量百分浓度为3％；最后将酸催化的SiO2溶胶回流冷凝24小时，将得到的溶胶记为溶胶A；其中，36g水中含有0.2g浓盐酸；步骤2，将无水乙醇、氨水、去离子水和正硅酸乙酯按摩尔比37.6∶0.17∶3.25∶1混合，得到混合溶液Z，将混合溶液Z加入到一定量的溶胶A中，得到混合溶液Y；往混合溶液Y中加入与溶胶A质量等量的乙...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶朝友，张林，邹鑫书，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川,51