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本发明涉及一种用于基板处理设备的气体分配设备以及基板处理设备，所述气体分配设备包括：分配体，向对基板进行支撑的基板支撑单元分配处理气体；第一注入孔，设置在分配体中，向基板支撑单元分配的处理气体经由第一注入孔注入；以及第二注入孔，设置在分配体...
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