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本发明公开了一种新型PSS基板结构及其制作方法，PSS基板包括单位图和曝光区，且单位图均匀分布在曝光区内，制作方法包括以下步骤：利用旋涂的方法，在PSS基板上涂覆一层负性光刻胶，将负性光刻胶曝光显影，得到带胶的具有圆形孔洞的PSS基板，然后...
该专利属于福建中晶科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建中晶科技有限公司授权不得商用。

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