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本发明提供一种基板蚀刻设备及其处理系统，其中基板蚀刻设备包括承载机台、多个第二组滚轮及调节控制装置。承载机台包括运送所述基板的多个第一组滚轮、容纳有蚀刻液的蚀刻槽、设置于所述蚀刻槽上方的喷管及设置于所述蚀刻槽一端的液刀。多个第二组滚轮分别设...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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