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本申请公开了一种磁控溅射装置，包括腔室和设置在腔室内的靶座和旋转靶材，所述旋转靶材用于设在基板的上方，所述旋转靶材的一侧固定有聚集罩，所述聚集罩用于将扩散到其上的溅射材料反弹至所述基板的表面。本实用新型通过在旋转靶材的一侧设置聚集罩，通过聚...
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