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通过共振耦合实现电磁场增强的纳米结构及其制造方法技术
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文档序号:20863676
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通过共振耦合实现电磁场增强的纳米结构,包括基底,在基底上设置有纳米光栅,在基底和纳米光栅上沉积有金属层,进而形成纳米缝隙,所述纳米光栅的周期为400nm~1000nm,光栅高度100nm~400nm,两条相邻光栅间的狭缝宽度为4nm~40n...
该专利属于四川大学所有,仅供学习研究参考,未经过四川大学授权不得商用。
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