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本发明公开了一种化学气相沉积高纯钨溅射靶材制作方法，包括如下步骤：（1）准备原料：以常温常压为气态的六氟化钨为原料；（2）制备高纯金属钨：通过化学气相沉积设备，用还原气体将六氟化钨还原成高纯金属钨；（3）将步骤（2）中得到的高纯金属钨沉积到...
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