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本发明涉及设备温控领域，具体为一种真空烘烤装置，包括：冷屏，用于将外真空层与外界进行隔绝；外真空壁，用于将所述外真空层与内真空层隔离；热氮气通道，用于热氮气的流通；内真空壁，用于将所述内真空层与反应腔进行隔离；石墨层，用于保持所述反应腔的真...
该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。

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