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本发明提供一种工件研磨垫、晶圆双面研磨方法及其研磨装置,所述研磨垫应用于工件双面研磨装置,所述研磨垫上开设有凹槽,从所述研磨垫的中心至边缘的方向上,所述研磨垫划分为至少两个研磨区域,所述至少两个研磨区域中的凹槽的槽宽不同,和/或,所述至少两...该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种工件研磨垫、晶圆双面研磨方法及其研磨装置,所述研磨垫应用于工件双面研磨装置,所述研磨垫上开设有凹槽,从所述研磨垫的中心至边缘的方向上,所述研磨垫划分为至少两个研磨区域,所述至少两个研磨区域中的凹槽的槽宽不同,和/或,所述至少两...