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本公开实施例涉及具有被背侧深沟槽隔离结构围绕的光学二极管的互补式金属-氧化物-半导体影像传感器及相关形成方法。在一些实施例,多个像素区是置于基底中且分别具有光学二极管。背侧深沟槽隔离结构是置于相邻的像素区间,从基底的背侧延伸至基底内部。背侧...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本公开实施例涉及具有被背侧深沟槽隔离结构围绕的光学二极管的互补式金属-氧化物-半导体影像传感器及相关形成方法。在一些实施例,多个像素区是置于基底中且分别具有光学二极管。背侧深沟槽隔离结构是置于相邻的像素区间,从基底的背侧延伸至基底内部。背侧...