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本发明提供一种电解质膜的膜厚测定方法及其装置。电解质膜用膜厚测定装置(30)具有放射检测介质(42)的检测介质发送部(44)、检测金属催化剂的检测部(46)和分析机构(34)。分析机构(34)根据在由检测部(46)生成的检测信号的厚度方向曲...
该专利属于本田技研工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过本田技研工业株式会社授权不得商用。

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