下载半导体器件的形成方法及半导体器件的技术资料

文档序号:20728278

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本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种半导体器件的形成方法及半导体器件。所述半导体器件的形成方法包括如下步骤:提供一衬底;形成掩膜层于所述衬底表面,所述掩膜层中具有一开口,所述开口具有第一宽度;沿所述开口注入第一类型离子至所述衬底,形成...
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