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一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置制造方法及图纸
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下载一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置的技术资料
文档序号:20728251
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本发明公开了一种等离子体扩散装置,其特征在于,包括:中空的端口放大装置(1),所述端口放大装置(1)的进口端用于与等离子体源输出端密封连接,所述端口放大装置(1)的进口的面积小于出口的面积;栅栏(5),所述栅栏(5)安装在所述端口放大装置(...
该专利属于中国科学技术大学所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学技术大学授权不得商用。
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