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本发明实施例提供一种高空穴移动率晶体管,包括:背阻挡层,位于基板上;导通层,位于背阻挡层上;通道区,位于导通层中,邻近导通层与背阻挡层的介面;掺杂层,位于导通层上;栅极电极,位于掺杂层上;源极/漏极电极,分别位于栅极电极的两相对侧;及能带调...该专利属于世界先进积体电路股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过世界先进积体电路股份有限公司授权不得商用。
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本发明实施例提供一种高空穴移动率晶体管,包括:背阻挡层,位于基板上;导通层,位于背阻挡层上;通道区,位于导通层中,邻近导通层与背阻挡层的介面;掺杂层,位于导通层上;栅极电极,位于掺杂层上;源极/漏极电极,分别位于栅极电极的两相对侧;及能带调...