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本发明提供一种化学机械(CMP)抛光垫,其具有顶部表面、经调适以接收端点检测窗口的一个或多个孔口、具有凹陷部分且具有一个或多个凸缘端点检测窗口(窗口)的下侧,每个窗口具有经调适以紧密地装配到所述抛光层的下侧的凹陷部分中的凸缘,所述凸缘具有略...该专利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种化学机械(CMP)抛光垫,其具有顶部表面、经调适以接收端点检测窗口的一个或多个孔口、具有凹陷部分且具有一个或多个凸缘端点检测窗口(窗口)的下侧,每个窗口具有经调适以紧密地装配到所述抛光层的下侧的凹陷部分中的凸缘,所述凸缘具有略...