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本发明公开涉及用以半导体晶圆上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影过程的处理设备。其具有使晶圆在高速旋转时稳定的吸附于一固定平台上的功能。晶圆高速旋转真空吸附主轴以下称为主轴。具体结构为：一根一端开放的空心轴，开放端与晶圆支撑平台连接，内设...
该专利属于沈阳芯达科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯达科技有限公司授权不得商用。

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