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本发明提供了一种检测硅片位置异常的清洗设备及其清洗方法，清洗设备包括刷洗滚筒和位于所述刷洗滚筒一侧的至少两个滚轴，所述滚轴上设置有支撑部，所述支撑部为硅片提供支撑并通过滚轴的同向转动使硅片转动，支撑部设置有压力传感器和缓冲结构，压力传感器检...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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