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本发明提供一种高导电率一氧化硅的生产设备及方法，涉及纳米材料制备技术领域，所述设备包括反应装置、与所述反应装置管路连通的真空泵、与所述反应装置管路连通的掺杂物生成装置和与所述掺杂物生成装置管路连通的掺杂源供给部，所述反应装置内部设有迂回的流...
该专利属于杭州致德新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州致德新材料有限公司授权不得商用。

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