专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
南亚科技股份有限公司
>
半导体元件的精细岛状图案形成方法技术
>技术资料下载
下载半导体元件的精细岛状图案形成方法的技术资料
文档序号:20518867
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种半导体元件的精细岛状图案形成方法,其包含:在基板上的硬遮罩层上形成第一遮罩柱;形成上缓冲遮罩层至硬遮罩层上以覆盖第一遮罩柱;对上缓冲遮罩层图案化岛状物;分离每个岛状物为次岛状物;蚀刻上缓冲遮罩层以在硬遮罩层上形成第二遮罩柱;...
该专利属于南亚科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过南亚科技股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。