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本发明公开了一种聚焦环及其耐腐蚀防护方法，其位于陶瓷的静电卡盘以及套置有静电卡盘侧密封圈的静电卡盘中间层的外周侧，静电卡盘陶瓷层位于所述静电卡盘中间层上方，静电卡盘中间层位于设置在等离子体蚀刻室中的静电卡盘的基体上方，静电卡盘的基体外周侧设...
该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

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