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本实用新型提供了一种化学镀铜装置，该化学镀铜装置包括：反应槽体，所述反应槽体包括第一槽体和第二槽体；化学溶液盛接槽，所述化学溶液盛接槽设置于所述第一槽体的左侧；清洗槽，所述清洗槽设置于所述化学溶液盛接槽的左侧，所述清洗槽内设置有用于对化学镀...
该专利属于铜仁学院所有，仅供学习研究参考，未经过铜仁学院授权不得商用。

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