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本发明提出一种晶片清洗设备，包括：清洗箱和清洗单元，清洗单元安装为能够向上或向下运动到清洗箱中，并且构造为将清洗溶液注射到清洗箱的内壁上。...
该专利属于爱思开矽得荣株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过爱思开矽得荣株式会社授权不得商用。

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