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本发明提供一等离子体发生器和应用该等离子体发生器的等离子体清洗装置，用于处理一待处理表面。所述等离子体发生器包括至少一等离子体喷管组件，所述等离子体喷管组件包括复数个等离子体喷管和一公共流道。每一等离子体喷管具有一进气端和一出口端；其中，每...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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