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本发明公开了一种对InSb晶片抛光用陶瓷盘的清洗方法，本发明在InSb晶片的抛光工艺中，能够通过较为简单的清洗工艺，将陶瓷盘表面沾污去除，而且能够进行一批次多个陶瓷盘同时清洗，从而较高效率的优化陶瓷盘表面平整度，最终达到优化晶片抛光质量和成...
该专利属于中国电子科技集团公司第十一研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第十一研究所授权不得商用。

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